次世代マルチビーム描画装置の電気設計/制御盤設計/横浜/035

アピールポイント

＜企業情報＞
・ニューフレアテクノロジーは、２００２年に東芝機械株式会社から半導体装置事業を継承して創業いたしました。以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置を開発・提供し、半導体産業の発展に貢献してまいりました。

・今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワークで繋がることにより、大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も急速に高度化・多様化が進んでいます。

・ニューフレアテクノロジーは、半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク（シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版）に高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーとして世界中のお客様にご愛用いただいています。

・また、フォトマスクの仕上がりを検査するマスク検査装置や電気自動車など用途の拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を開発し、お客様から高い評価を頂いてます。 さらに、電子ビームマスク描画装置の次世代機となるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術とマスク検査技術を融合した電子ビームマスク検査装置も開発から実用化の段階に入ってまいりました。

・これからもニューフレアテクノロジーは、高い技術力を保持し、お客様のニーズに合う半導体製造装置をタイムリーに提供することで、弊社のビジョンである「最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と社会、人類の発展に寄与すること」を果たして参ります所存です。